桌面级无掩膜紫外光刻设备,⽤于晶圆级2D/2.5D微纳结构加⼯。
设备为小巧紧凑型设计,无需掩膜,具备高直写速度、高分辨率、高对准精度等特点。采用集成化设计,全自动控制,操作简便,适合实验室科研需求及快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。
桌面级无掩膜紫外光刻设备,⽤于晶圆级2D/2.5D微纳结构加⼯。
设备为小巧紧凑型设计,无需掩膜,具备高直写速度、高分辨率、高对准精度等特点。采用集成化设计,全自动控制,操作简便,适合实验室科研需求及快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。
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