数字无掩模光刻机RML100

产品类别:光学生产技术 > 光学生产加工
产品属性:首发产品(将在慕尼黑光博会上首次展出)
应用领域:消费电子、电子(其他)、半导体、光学

采用数字微镜阵列 (DMD) 的无掩模扫描式光刻机,365nm波长i-line

直接从数字图形生成光刻图案,无需实体掩模板,支持读取

GDSII和BMP文件

全自动化的对焦和套刻,易于使用

同轴显微系统,允许实时观察及对准

套刻精度: 0.5um (500nm)

500 nm / 1 um分辨率

灰阶曝光(扫描模式下256阶,静态曝光模式下4096阶)

结构紧凑,适用范围广

北京瑞荧仪器科技有限公司

Reyintech

中国(含港澳台) | OW8.8409

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