SICE-Y6用于6英寸的SiC外延工艺,可实现P&N型掺杂。反应腔采用水平热壁式设计,内部设有旋转机构,能够形成稳定的气流场;整个反应腔采用感应线圈加热,能够形成均匀的温度场,从而保证优异的工艺指标。
SICE-Y6用于6英寸的SiC外延工艺,可实现P&N型掺杂。反应腔采用水平热壁式设计,内部设有旋转机构,能够形成稳定的气流场;整个反应腔采用感应线圈加热,能够形成均匀的温度场,从而保证优异的工艺指标。
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