RAITH150 Two作为高分辨电子束光刻机，自推出以来全球销量不容忽视。该系统被广泛地用于研发和纳米技术中心，已证明了系统的24/7使用的稳定性。

RAITH150 Two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。

环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。