PhableS系列光刻机，是一款针对12”及以上面积的步进式曝光机。该设备具有光源出光场尺寸调节功能，可在一个光刻版上排布多个器件，自定义需要曝光的图案区域。设备配置全自动基片和光刻版操作模块，内置环境控制单元，适合针对工业化大批量生产。Eulitha的DTL技术可以在非接触模式下，实现接近波长极限高分辨率的曝光，例如，亚微米周期的一维线栅、二维图案（例如，六方或四方排布的图案）。设备采用了与半导体行业相同的耗材（光刻胶等）和工艺方案。

应用领域：

 光电子器件

 光学器件

 XR（AR/VR/MR）

 生物/医疗

 结构色