PBATCH实现低温高质量PEALD工艺,可应用在高分子材料衬底等温度敏感的衬底,制备氧化物、氮化物、金属层等应用,最大可支持多片12寸样品。而ALD沉积速率低,限制了生产效率,批次性ALD可大幅提高ALD产能,降低客户使用成本。
PBATCH实现低温高质量PEALD工艺,可应用在高分子材料衬底等温度敏感的衬底,制备氧化物、氮化物、金属层等应用,最大可支持多片12寸样品。而ALD沉积速率低,限制了生产效率,批次性ALD可大幅提高ALD产能,降低客户使用成本。
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