HANA多靶位磁控溅射真空镀膜机是一款手机和汽车等面板领域镀颜色膜、增透膜的多功能磁控溅射镀膜设备。

本设备是单体单开门结构，内部装有多个靶位，该产品采用4对（8个）靶位的设计，可以进行多层不同材料的连续镀膜，可实现500纳米以上的超厚膜层镀膜。（靶位可以根据客户需要增加）

腔体内产品挂具可拆卸并可以每分钟60转以上的高速旋转，旋转速度可以通过触摸屏幕可无级调速，并可直观展示整个设备运行状态。

设备优势：

1、4对靶位可灵活配置靶材的材质。

2、根据需求每个靶位同时开启或重复开启。

3、分段式分布气体膜层均匀性好。

4、每炉可加工镀膜面积大、效率高。

5、便捷的操作、实时的监控数据，保证产品品质。

6、合理的整体结构布局，方便操作、维护保养便捷。