说明：

1.气浮平台克服了传统机械定位台行程短，响应滞后大，摩擦阻力等不足，实现了长行程高精度与高速定位功能，在半导体光刻设备，精密测量和生物医学等领域中具有不可替代的作用。

2.重复定位精度高，俯仰偏摆角度小，运动台与导轨使用同种材料，在温度变化较大的工况下不会出现气 浮台常见的“抱死”现象。

特点：

通过静压气浮隔离机械运动副之间的接触，提高平台机构运动精度、表面平滑、微小偏差（俯仰， 偏摆等）、性能稳定、没有机械损耗、“零”摩擦可使其进入纳米级应用。

使用场所：

精密加工、精密测量、微电子制造业、光刻机平台、半导体加工业、扫描。