CBATCH多片批次式ALD能够实现全自动、多片、连续化生产，有效提高产能，降低COO。并且多片批次式ALD能够实现原子级别的精确控制，ALD沉积薄膜无针孔，质量高，可作为高K值介质层，金属层，封装层，电镀种子层及其他功能层应用，广泛应用于Mini/Micro LED, 第三代半导体，以及集成电路制造等领域。