Quantum X align作为一流的3D打印设备具备了专利对准双光子光刻技术A2PL®，可实现在光纤和光子芯片上的纳米级精确对准。

全新Quantum X align对准双光子光刻（A2PL®)系统通过新添加的高精度对准功能实现了对高精度结构的精准放置，增强了Nanoscribe已受大众认可的三维微纳加工技术。这款具备纳米级精度对准3D打印功能的最高分辨率打印设备利用A2PL技术，自由曲面微光学原件可以以亚微米精度精准对齐打印到光纤或光子芯片光轴上。可应用于生产用于光子集成和封装或小型化成像光学器件的高效光学互连，例如用于微创内窥镜检查等。