漏气率优于: ～10-13 PaM3/Sec，绝对真空度: 优于3x10-12 Torr，内外表面同时拥有光学增透AR膜，或者其他ITO，PBS膜。

应用原子键合(光胶)技术，可以制作出超高真空度的光学腔体UHV，可以使用在原子钟，量子计算，原子物理等光学系统中的核心原部件。我司具有制作2~400毫米腔体的丰富经验。材料可以根据用途选择光学藍宝石、超純度石英、PYREX 等。